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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 產(chǎn)品廠商:泰諾
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
該電子束蒸發(fā)方式鍍膜儀,主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預(yù)處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜
詳情介紹:

該電子束蒸發(fā)方式鍍膜儀,主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預(yù)處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜.

電子束蒸發(fā)方式鍍膜儀設(shè)備技術(shù)參數(shù)

使用條件

環(huán)境溫度

5℃~40

電源

380V

功率

20KW

水壓

2.5bar

真空室尺寸

蒸發(fā)室尺寸

φ500×H500()

過渡倉庫

φ280×H300()

電子槍

新型電子槍1套,6穴坩堝

離子源

考夫曼離子源K08一套

樣品轉(zhuǎn)盤

樣品尺寸:≤φ150mm,樣品可旋轉(zhuǎn),也可上下升降調(diào)節(jié)樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設(shè)計(jì)),加熱溫度≤500

系統(tǒng)真空度

極限真空

經(jīng)12~24小時(shí)烘烤,連續(xù)抽氣5x10-5Pa

 

抽氣速率

從大氣開始40分鐘內(nèi)真空度≤5x10-4Pa

 

系統(tǒng)漏率

整機(jī)漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后,測(cè)量真空室真空度≤10Pa

抽真空系統(tǒng)

TY1200分子泵+機(jī)械泵(VRD-30)系統(tǒng),并設(shè)置旁路抽氣

鍍膜監(jiān)測(cè)

采用TM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)測(cè)

鍍膜厚度的不均勻度

≤3%

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